在微智能服务行业中，对硅片实行分散可以涉及到硼和磷源，铁离子注射到是8〃及以内长宽硅片通常用的模式。等离子态和气态源范围广用在平均性规定标准较低的制作工艺中，而nvme固态分散源就是种高规定标准分散的高品质的缓解方式。

易倍体育emc 从上世纪70年代开始开发固态源工艺，目前提供全方位的产品和技术支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面扩散源）的商标。

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目前由于以下三点，PDS固态源收到了越来越多的询盘：

1、祖国的健康规范，液态氨气态源的生产制造会见临肯定的的健康风险点；

2、MEMS配件的生產扩长，高含量向外蔓延要热向外蔓延工艺设计；

3、中高质量服务的实际需求成长。

PDS固态源的优势

1、关键在于是匀称性良好的，一样利用者回访片内和片间匀称性能够把控好到1%~2%。且原料异常现象数量低；

2、2是PDS固态硬盘硬盘源且无毒不存在害处，较之于固体氨又又或者气态源，PDS的机 造成危害安全防护网符合要求很低。从固体氨又又或者气态源改革为固态硬盘硬盘源仅需重设气路，增添专用的石英晶体舟等简洁改革就行了采用；

3、的使用固体源生成的参杂剂封闭式管理在硅片附近，是不会悬挑脚手架在专用装备输送管道一些门边，更能专用装备清除垃圾和维保；

4、能简洁明了经由发展平均温度，日子和和气气流来设定要的任务的产品，不累计的生产的之后也不方便拿掉和永久保存；

5、确认的工艺中的膜厚检测也可以分析判断生孩子的质量；

6、跟铁离子植入相对来说，固定源次散出1个舟需要散出25片，错误率很高。

PDS固态源的适用性

1、PDS固态硬盘安装源迄今为止也可以要做到的上限长度为8〃；

2、只好常用做技术炉管而是不能用做径直炉管；

3、原先液态氨气态吸附路必须开始气路进行改造就可以在使用，期间必须通离氮气；

4、是需要专业级的石英石舟针对。

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